В настоящей монографии описаны разработанные на основе тлеющего разряда с полым катодом источники широких пучков быстрых нейтральных молекул для обработки диэлектриков, источники импульсных электронных пучков с энергоемкостью до десятков килоджоулей и поперечным сечением до сотен квадратных сантиметров для модификации поверхности металлических изделий, установки для плазменно-иммерсионной обработки и источники сопровождаемых быстрыми молекулами газа атомов металла
для синтеза упрочняющих покрытий в углублениях диэлектрических изделий.
Книга предназначается студентам старших курсов и аспирантам, специализирующимся в области высокоэффективных технологий обработки материалов, а также разработчикам вакуумного оборудования для ионноплазменной модификации поверхности изделий.